荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優(yōu)異。飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 低電壓成像優(yōu)勢(shì)明顯，可減輕電子束對(duì)樣品的損傷和穿透，更好地觀測(cè)絕緣和電子束敏感的樣品，可以還原樣品真實(shí)形貌。

第六代 Phenom Pro 高分辨率臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 CeB6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，Phenom Pro 可以適用于廣泛的研究領(lǐng)域。

全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。Phenom XL G2 臺(tái)式掃描電鏡大樣品室版升級(jí)為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì) 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。